(資料圖片)

IT之家 7 月 6 日消息，根據(jù) DigiTimes 報道，ASML 試圖規(guī)避荷蘭新銷售許可禁令， 面向中國市場推出特別版 DUV 光刻機。

消息稱如果該項目繼續(xù)推進，中芯國際、華虹等中國半導體企業(yè)可以繼續(xù)使用荷蘭的設備生產(chǎn) 28 納米及更成熟工藝的芯片。

消息稱該特別版 DUV 光刻機基于 Twinscan NXT: 1980Di 光刻系統(tǒng)改造，而 1980Di 是 10 年前推出的舊型號，不在本次官方禁令范圍內(nèi)。

1980Di 是 ASML 現(xiàn)有效率比較低的光刻機，支持 NA 光學器件、分辨率可以達到 <38 nm，理論上可以支持 7nm 工藝。

大多數(shù)晶圓廠使用 1980Di 光刻機， 主要生產(chǎn) 14nm 及以上工藝芯片 ，很少使用其生產(chǎn) 7nm 芯片。

IT之家在此附上 DigiTimes 報道鏈接（需付費閱讀），感興趣的用戶可以點擊閱讀。